1.多弧(hu)离子、磁过滤电弧(hu)离子、直流磁控(kong)(kong)溅射、中(zhong)频磁控(kong)(kong)等镀膜(mo)工艺(yi)
2.被镀工件表面的辉(hui)光放(fang)电(dian)清洗(xi)
3.镀膜前(qian)的离子轰击
4.镀膜时的(de)离(li)子加速
改善(shan)膜层质量(liang)，提高(gao)膜层均(jun)匀(yun)性
具(ju)有效率高、运行(xing)稳定等优点
增加膜层与基体(ti)结合(he)力，提(ti)高(gao)沉积速率
强(qiang)大的抑弧功能，有(you)效抑制(zhi)靶面(mian)异(yi)常(chang)放电(dian)
改变沉积(ji)规(gui)则(ze)，调整(zheng)膜层颜色
| 项目 | 型号 | ||||
LDP-10/A LDP-10/B | LDP-20/A LDP-20/B | LDP-30/A LDP-30/B | LDP-40/A LDP-40/B | LDP系列电源 | |
| 输入电压 | 三相交流380V ±10%，50～60 Hz | ||||
| 输出功率 | 10KW | 20KW | 30KW | 40KW | 10KW-100KW可定制 |
| A款:工作电流 | 2A-10A | 3A-20A | 4A-30A | 5A-40A | 2A-100A可定制 |
| A款(kuan):工作电压 | 100V～1000V（空载电压＞1000V） | ||||
| B款(kuan):工作电流 | 2A-12.5A | 3A-25A | 4A-37.5A | 5A-50A | - |
| B款:工作电压 | 100V～800V（空载电压＞800V） | - | |||
| 输出频率 | 20kHz～240kHz（常规频率：20kHz～80kHz） | ||||
| 占空比 | 10%～80%（最大94%） | ||||
| 工作方式 | 恒压、恒流、恒功率 | ||||
| 调节精度 | ≤1% | ||||
| 工作效率 | ≥90% | ||||
| 响应时间 | ＜500ns | ||||
| 通讯方式 | RS485、光纤等通讯端口,MODBUS通讯协议 | ||||
| 冷却方式 | 风冷+水冷 | ||||
| 尺寸(mm) | 390(D)×425(W)×142(H) | 710(D)×435(W)×225(H) | 710(D)×435(W)×225(H) 810(D)×435(W)×280(H) | ||
| 安全防护 | 过流、过压、短路、过热保护，接地保护，漏电保护 | ||||
